其中,关于《半导体设备 集成电路制造用干法刻蚀设备测试方法》,主要起草单位包括中国电子科技集团公司第四十八研究所,中国电子技术标准化研究院,湖南楚微半导体科技有限公司,中芯国际集成电路制造有限公司,北京北方华创微电子装备有限公司,中微半导体设备(上海)有限公司,合肥晶合集成电路股份有限公司等。
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