自从集成电路发明以后，人类的电子信息技术开始腾飞，60年多年来，在摩尔定律的指导下，半导体集成电路的高速发展彻底改变了电子产品。以计算机为例，1946年诞生的世界第一台数字计算机重30吨，占地约140平方米。而现在一颗指甲大小的芯片其处理能力已经堪比大型计算机。
实际上，集成电路的发展与其制造工艺─——光刻技术的进步密不可分。光刻技术是利用光化学反应原理和化学、物理刻蚀方法将掩模板上的图案传递到晶圆的工艺技术。光刻的原理起源于印刷技术中的照相制版，是在一个平面上加工形成微图形。光刻技术按曝光光源主要分为光学光刻和粒子束光刻(常见的粒子束光刻主要有X射线、电子束和离子束光刻等)。其中光学光刻是目前最主要的光刻技术,在今后几年内其主流地位仍然不可动摇。
光刻技术的进步使得器件的特征尺寸不断减小，芯片的集成度和性能不断提高。在摩尔定律的引领下,光学光刻技术经历了接触/接近、等倍投影、缩小步进投影、步进扫描投影等曝光方式的变革。曝光光源的波长由436纳米（G线）、365纳米(Ⅰ线)，发展到248纳米(KrF)，再到193纳米( ArF)再到32 ~16 纳米的极紫外光。技术节点从1978年的1.5微米、1微米、0.5微米、90纳米、45纳米......一直到目前的3纳米。集成电路的发展始终随着光学光刻技术的不断创新向前推进。
光刻机（也称光刻系统）是光刻技术的关键装备,其构成主要包括光刻光源、均匀照明系统、投影物镜系统、机械及控制系统(包括工件台、掩膜台、硅片传输系统等)。其中光刻光源是光刻机的核心部分。随着集成电路器件尺寸的不断缩小，芯片集成度和运算速度的不断提高，对光刻技术曝光分辨率也提出更高的要求。
嘉宾介绍
01、分享嘉宾：王致人
资深半导体行业投资人。中欧国际工商学院EMBA，美国波士顿学院（BC）金融硕士，超过20年产业研究与证券投资经历，曾任美国国际集团（AIG）权益投资部经理，汇添富基金国际投资副总监，现任上海一家私募基金管理合伙人，深耕半导体晶圆制造与设备领域。具备美国特许金融分析师（CFA）、财务风险经理人（FRM）与中国基金业协会注册基金经理等资质，也是国际光学工程学会（SPIE）、中国电源学会会员。
02、主持人：张国斌
电子创新网创始人兼CEO，西安电子科技大学电子工程专业毕业，半导体领域知名KOL。有多年的半导体媒体内容与运营经验，撰写过大量产业分析文章。（微信号：18676786761）
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“芯英雄联盟”是电子创新网新推出的一档知识分享型直播栏目，每期直播邀请半导体产业资深专家与电子创新网CEO张国斌先生共同分享产业趋势、探讨技术未来，助力本土半导体业者创新！
