Soitec|50万片!Bernin4fab工厂正式落成,SmartSiC技术明年将正式上车

原创 碳化硅芯观察 2023-11-21 14:08

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近日,Soitec的Bernin 4 fab工厂正式落成剪彩。

信息称,Bernin 4 晶圆厂将拥有 2,500 平方米的洁净室空间,但目前仅安装了 1,500 平方米。第一批晶圆将于 11 月下线,到明年产量将增至数千片,到 2028 年满负荷生产时年产量将达到 500,000 片。200 毫米晶圆计划于 明年3 月份投入生产。

Bernin 4,兼具 150 至 200 毫米之间的爬升灵活性。负责人称:“SmartSiC 的采用尺寸有 150 毫米和 200 毫米,我们不想选择其中一种尺寸,因为我们认为这两个市场都会增长,150 毫米(晶圆尺寸)已经开始流行,而 200 毫米(晶圆尺寸)正在酝酿之中。我们选择创建一个灵活的、与尺寸无关的晶圆厂,能够根据需要在 150 毫米和 200 毫米的尺寸上进行生长。”

到 2028 年,Soitec 计划每年生产超过 500 万片晶圆,涵盖所有生产基地和晶圆尺寸。

欧盟委员 Thierry Breton(左五)和法国工业部长代表 Roland Lescure(右三)出席了 Soitec 的 Bernin 4 剪彩仪式。(来源:Anne-Françoise Pelé/EE Times Europe)

从 Soitec 决定开发 SmartSiC 技术到在法国伯宁的新工厂启动 SmartSiC 晶圆生产,仅过了四年的时间。Soitec承诺将在不到一年的时间里,市面上会出现首款采用 SmartSiC 功率组件的电动汽车正式上路。

Soitec 首席执行官 Pierre Barnabé 在 Soitec的Bernin 4 fab 工厂落成典礼上表示:“为了巩固在创新半导体材料市场的地位,我们将业务多元化,分为移动通信、智能设备以及汽车和工业三个部门。“这个新的SmartSiC工厂是这一动态的一部分,占地2500平方米,将每年生产50万块SmartSiC晶片,创造400个直接就业岗位。SmartSiC体现了我们的可持续增长战略。”

Soitec首席执行官 Pierre Barnabé

据悉,Bernin 4 fab的总投资约为4亿欧元,其中8千万欧元用于建筑和洁净室,超过3亿欧元用于设备。Soitec在典礼前的新闻发布会上表示,公司已获得了这笔投入金额30%的补贴。
Pierre Barnabé表示:“在不到18个月的时间里,我们从一片荒地发展成了一家设备齐全、随时可以生产并向全球发送样品的工厂”。

Soitec 的 Bernin 4 延伸区鸟瞰图(来源:Soitec

从实验室走向量产,Soitec稳步前行

SmartSiC 源自法国格勒诺布尔 CEA-Leti 内 Soitec 基板创新中心的试验线,是 Soitec 专有 SmartCut 工艺对 SiC 的改编。

Soitec 创新总监 Sandrine Chabanet 表示:“从实验室到工厂只用了四年时间。2019 年,我们决定采用 SmartSiC 解决方案。2020 年,在 CEA-Leti 的帮助下,我们推出了第一批 150 毫米晶圆。2021 年,我们能够在 CEA-Leti 建立试验线。2022 年,我们对 200 毫米晶圆进行了认证。今天,我们为 Bernin 4 工厂举行了落成典礼。”

SmartSiC 由单晶 SiC 供体晶圆上的非常薄的层制成,转移并键合到由多晶 SiC 制成的高导电载体晶圆上。Soitec 声称,与传统块状 SiC 相比,SmartSiC 衬底通过更高的供体晶圆可重用性、更高的产量和更小的芯片尺寸,将性能和能源效率提升到了新的水平。

Sabonnadière 表示,多晶硅晶圆的优势在于它具有极高的导电性,其电流传导能力比单晶硅晶圆高 8 倍。“与 MOSFET 和二极管中的传统 SiC 相比,这意味着节能 15% 至 20%。”

Soitec 进一步声称,其 SmartSiC 技术能够利用一种单晶 SiC 衬底生产出 10 倍以上的高质量 SiC 衬底。

延伸阅读:【技术解读】Soitec的SmartSiC™将成为新的行业标准?

Sabonnadière 表示,优质 SiC 供体晶圆可以重复使用多次。“由于我们重复使用的单晶硅(供体)晶圆的价值是其价值的 10 倍,如果它的质量非常好,那么将拥有 10 个质量非常好的晶圆。” 这种可重用性效果提高了制造产量,并允许在单个晶圆上安装更多器件。

Sabonnadière 表示:“从进入晶圆厂的 50,000 片晶圆开始,我们将生产 500,000 片晶圆,并且在每个 [200 毫米] 晶圆上,芯片制造商将能够添加 25% 以上的组件。”

Soitec 声称单晶硅供体晶圆可以重复使用 10 次。实际上我们说 10 个,从技术上讲我们可以做 15 个,但没有什么可以阻止我们走得更远。这是我们与 Leti 等公司共同进行的高级研究的一部分,旨在扩展我们的价值主张。”

当媒体询问 SiC 供体晶圆的质量是否会因重复使用而恶化时,他的回答是否定的。“质量没有改变。这更多的是机械抓地力的问题,就像你拿着一块盘子,它会逐渐被划伤,但晶圆的内在质量不会改变。”

Sabonnadière 补充道:“SmartSiC 才刚刚起步。故事还没有结束。我们将继续进行先进的研发,并考虑 SmartSiC 的使用和优化,包括提高可重用性。”

已向客户发送了近千片样片验证

Soitec 于 2022 年 5 月发布了据称是世界上第一个将 200 毫米单晶 SiC 供体晶圆键合到200 毫米多晶 SiC 晶圆的产品。去年12月,它宣布与意法半导体达成协议,对Soitec的SmartSiC技术进行鉴定和认证,以生产200毫米SiC衬底。

Sabonnadière 称,为期 18 个月的资格和认证阶段正在“按计划”进行。他拒绝透露其他客户的身份,但表示迄今为止已向客户和潜在客户发送了 1,000 多个样片用于供客户验证。

“我们 7 月份有 20 个潜在客户,今天有近 30 个潜在客户,世界四个汽车制造地区的验证反馈正在加速回馈,”他说。“我们不再处于样片阶段,已经进入工程化。合理地说,到 2024 年底,我们将看到第一批配备内置 SmartSiC 功率组件的电动汽车。”

通向 800V 电动汽车之路

对于未来的市场需求,Soitec 坚定看好电动汽车800V的进展。他们认为,与碳减排轨迹一致,电动汽车的采用在全球范围内激增。碳化硅器件一直是电动汽车的技术加速器,可以提高电子系统的功率密度,同时降低车辆的整体尺寸、重量和成本。

Soitec 预计SiC 在电动汽车中的渗透率乐观预期可达约为 70%,并旨在使SmartSiC 技术成为 150 毫米和 200 毫米 SiC 晶圆的市场标准。

Soitec 碳化硅项目副总裁 Emmanuel Sabonnadière 在新闻发布会上表示:“没有充满活力的市场,就不可能有创新。” “如今的电动汽车市场每年增长约 30%,到 2025 年电动汽车保有量将达到约 2000 万辆,到 2030 年将达到 4500 万辆电动汽车,这意味着 2030 年所有新注册的电动汽车中约有一半将是电动汽车。汽车革命每 100 年发生一次,Soitec 不想错过。”

Soitec 在 2023 财年第四季度从 SiC 业务中获得了第一笔收入,并预计未来几年将快速增长。“到 2026 财年,SiC 将占我们 21 亿美元收入的 10%,到 2030 年,我们预计我们的 SmartSiC 产品将占 SiC 市场的 30% 份额,届时将占到 70% 的份额。电动汽车市场,”。

即使 Soitec 实现到 2030 年占据 30% 市场份额的目标,SmartSiC 距离成为电动汽车市场标准还有很长的路要走。然而,更长的行驶里程和快速充电需求正在推动 800V 电池系统的发展,Sabonnadière 坚信 SmartSiC 将成为使电动汽车在充电 10 分钟左右后即可行驶 500 公里的技术。“这将引发电动汽车的大规模采用,真正满足用户的需求,”他说。

Soitec 的下一步战略

这次采访中,Soitec也透露了下一步战略的方向,从中长期来看,Soitec 确定了盈利能力的两个主要驱动因素。首先是半导体市场的增长轨迹;第二个是采用趋势,从其核心绝缘体上硅产品转向绝缘体上压电、SiC 和 GaN 产品。

Barnabé 表示:“我们围绕 GaN 的产品将越来越多地渗透到市场,特别是 SmartGaN 解决方案,这将反映我们在 SmartSiC 方面所做的事情,但针对 GaN,并推出新的应用来满足市场需求。”

Barnabé 表示,SmartGaN 产品将在未来几年内开发出来。“对于 SmartSiC,Leti 的试点装置使我们能够显着缩短了解市场运作方式所需的交付时间。我们将受益于 SmartGaN 的这些成果,它由一层薄薄的高质量 GaN 组成,我们将其粘合到硅或非硅处理晶圆上,以满足 1,200 V 以上和极高射频的电力电子市场的需求”。

为了解释SmartGaN的加速阶段(预计会比SmartSiC更快),Menon指出,Soitec的工业基础设施包括位于比利时的GaN外延中心。SiC 的情况并非如此。“我们没有单晶硅来源,”他说。“这就是 GaN 外延技术和 SmartCut 技术之间的协同作用,该技术在公司中众所周知,并且我们知道如何实现产业化。所有这些因素都将有助于加快进程。”

当被问及是否计划建设 SmartGaN 工厂时,Barnabé 回答说:“我们拭目以待。”

SiC 和 GaN 有着光明的前景,但金刚石很可能被证明是高功率电子应用的终极宽带隙半导体材料。Soitec 表示,它已经制定了中长期路线图。“这是非常先进的研究,”Sabonnadière 告诉 EE Times Europe。“SmartGaN 是下一步,而之后的举措就是钻石级举措。”

*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,碳化硅芯观察转载仅为了传达观点,仅代表碳化硅芯观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系碳化硅芯观察。

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