佳能公司的新型纳米压印技术将为较小的半导体制造商提供一种生产先进芯片的途径，目前这一领域几乎完全由ASML垄断，佳能CEO御手洗富士夫表示，"价格将比ASML的EUV（极紫外光）光刻机低一个数量级"。也就是说参考现能卖几亿美元的ASML EUV光刻机，佳能的纳米压印光刻机只需几千万美元。
佳能已经与大日本印刷和内存芯片制造商起亚控股进行了近十年的纳米压印技术研发。与反射光的EUV光刻技术不同，佳能的技术直接将电路图案印在硅片上，创造出与最先进节点相当的芯片，尽管速度较慢。
这款新设备使芯片制造商有机会降低对晶圆代工厂的依赖，同时也使台积电和三星等代工芯片制造商更容易生产少量芯片。据佳能称，这些设备的电力消耗仅为EUV设备的十分之一。
御手洗指出，"我并不预期纳米压印技术能够取代EUV，但我相信这将创造新的商机和需求。我们已经接到许多客户的咨询。"
佳能此前一直专注于用于制造较低级别芯片的产品，但自2014年收购开创性的Molecular Imprints以来，开始着手纳米压印技术的研发。作为台积电的供应商，佳能正在宇都宫市、栃木县建造自20年来的首个新型光刻设备工厂，计划于2025年投入使用。
御手洗曾三次担任佳能总裁，自2006年担任CEO以来已经近18年，他表示不打算终身掌权。出生于1935年的他因在1995年首次掌舵佳能时挽救了该公司陷入困境的经营状况而受到赞誉。
佳能最近任命了一批新董事，他们将于明年加入董事会，其中包括佳能美国公司CEO小川一人（65岁）、工业集团负责人竹石弘明（59岁）和高级经营执行官朝田実（61岁），这表明新一批高管正在崭露头角。
