10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司10月13日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。
佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。
这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。
纳米压印光刻（紫外纳米压印）与光学光刻对比，图源：佳能官网，果壳硬科技编译
图源：日经中文网
佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产 2nm 芯片。
纳米印刷（Nanoprinted lithography）通常被认为是光学光刻的低成本替代品，SK 海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。铠侠此前进行过测试，不过潜在客户提出投诉，认为产品缺陷率较高，最后选择放弃。
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本文源自：IT之家
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