三星显示将为加强未来OLED技术能力做准备。据悉,为了适用比以往更精密的性能沉积工艺,主要合作公司AP系统的新ALD(原子层沉积)设备将很快运进。
据业界透露,三星Display计划最早从今年第四季度开始引进用于工程评价的最新ALD设备。
ALD是以原子水平(0.1纳米)的厚度多层沉积薄膜的技术。与现有的沉积方式CVD(化学气相沉积)相比,生产速度有所下降,但适用于微细化工艺要容易得多。得益于此,在尖端半导体领域已经得到了广泛的应用。
三星Display为了将ALD设备用于OLED面板的制造,决定在天安的A1线上引进设备。A1线是生产4.5代(玻璃原板尺寸)OLED的地方。属于较旧的生产线,开工率不高,被评价为适合测试新工艺。
ALD设备供应由三星显示的主要合作公司AP系统负责。据悉,目前正在忙于准备在A1线上安装相关设备。业界预测最早将在明年上半年内完成安装。
三星显示器想要引入AP系统的ALD设备的原因是为了提高LTPO OLED面板的性能。
显示面板需要一个具有开关角色的半导体设备,以调节像素的亮度,称为TFT。根据材料和物理特性,将TFT分为基于LTPS和LTPO。
现有的显示器行业一直利用LTPS TFT,但一直以智能手机等移动设备为中心推进LTPO的转换。三星Display的主要客户苹果也在iPhone及iPad上增加LTPO OLED的比重。
因为LTPO的泄漏电流量比LTPS少。此外,不需要LTPS中使用的激光设备,因此它可以降低生产成本,并且有利于面板的扩大。
不过,LTPO与LTPS相比电子移动度较低,在实现高刷新率(屏幕切换速度)和分辨率方面存在困难。此时,利用ALD设备可以实现比现有CVD更精密的沉积,从而提高LTPO TFT的电气特性和可靠性。
如果通过ALD成功完成Oxide
TFT工程评估,三星Display有望将其正式应用于苹果等主要客户公司的OLED面板。AP系统也通过韩国国策课题正在开发8.6代ALD设备。8.6代OLED是三星Display为苹果提供高端IT用OLED面板而在业界首次投资的新一代显示器制造工艺。
来源:Wit OLED编译
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