这种新技术采用一种名为非导电薄膜(NCF)新型技术,基于环氧基物质(epoxy-based substances)和还原剂(a reducing agent)制成的聚合物薄膜(polymer film),厚度介于 10 到 20 微米间,这种材料具有半导体所需的高性能,也能作为很好的黏合材料。
报导指出,与日本最好的技术相比,这项技术可将功耗降降低 95%,适合用于制造高性能 AI 芯片,如自驾车和资料中心。
这种技术可在室温(约摄氏 25 度)进行黏合,不会因温度升高而产生烟雾。传统制程则要求每级温度达到摄氏100 度,从而导致功耗更高、误差增加,以及因热膨胀导致可靠性下降等问题。
报导称,这款技术适用于所有高阶半导体生产,包括 Micro LED 制造及小芯片封装。该团队透露,目前已经联系几间 Micro LED 开发商来评估该技术,初步测试非常积极,有望三年内实现商业化,并成为半导体显示公司所需低功耗又环保的解决方案。
来源:科技新报
公众号正打造产业信息交流平台,加交流群请添加微信JM_Insight,敬请注明您所在公司及主营业务,添加后附名片即可。
往期回顾
Review of previous periods
●面板价格上涨动能告竭,降价压力大