填补国内空白！化学气相沉积碳化硅生产线即将在常山投产

DT半导体材料 2023-08-04 19:35

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8月3日上午，在常山县2023年三季度重大项目“三集中”仪式后，浙江大和半导体产业园三期建设项目竣工仪式举行，标志着常山正式成为全球半导体装备核心零部件重要制造生产基地。化学气相沉积碳化硅对于半导体装备来说必不可少，但是长期以来产品依赖日本进口，此次由浙江富乐德半导体材料科技有限公司导入的化学气相沉积碳化硅生产线将填补国内空白，破解集成电路半导体装备卡脖子技术问题，为全国半导体行业发展贡献强大力量。

△领导嘉宾为项目剪彩

浙江大和半导体产业园三期建设项目由浙江盾源聚芯半导体科技有限公司和浙江富乐德半导体材料科技有限公司投资建设，总投资近20亿元。

浙江盾源聚芯半导体科技有限公司将导入高纯硅部件项目，为不断增长的国产化半导体装备需求提供支持。

浙江富乐德半导体材料科技有限公司将导入高纯氧化铝及化学气相沉积碳化硅产品生产线，氧化铝产品具备优异的耐高温、抗氧化、耐腐蚀、耐磨耗、高导热、高绝缘性等特点，被广泛运用于半导体、LED液晶显示、激光、医疗设备等高精尖领域，从国外引进的化学气相沉积碳化硅产品生产线将填补国内空白，破解集成电路半导体装备卡脖子技术问题，为全国半导体行业发展贡献强大力量。