7月11日，国内刻蚀设备和MOCVD设备头部企业中微公司（中微半导体设备（上海）有限公司）发布公告宣布，在针对美国半导体设备公司Lam Research（泛林集团，台湾注册称为科林研发，大陆注册也称为泛林半导体）提起的侵犯商业秘密案中，赢得二审胜诉（国内诉讼程序为二审终审制）。
中微公司表示，2010年12月向上海市第一中级人民法院就科林研发侵犯公司商业秘密案提起一审诉讼并于2017年3月赢得一审诉讼。之后，中微公司为保护与捍卫自身权益进行了长达6年的斗争，并取得终审胜利。
“在上海市高级人民法院2023年6月30日的终审判决中，法院命令科林研发销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片。法院还禁止科林研发及科林研发的两名个人被告披露、使用或允许他人使用中微公司的专有的技术秘密。法院还命令科林研发为其侵犯商业秘密向中微公司支付赔偿金和法律费用。”
据了解，中微半导体设备（上海）有限公司由曾在泛林和应用材料公司任职的尹志尧2004年回国创立，目前是一家国产半导体设备龙头上市公司，主要有刻蚀设备和MOCVD设备（薄膜沉积设备）两大核心产品，据Gartner数据，在2020年全球干法刻蚀设备厂商市场中，中微公司市场份额占比为1.37%（泛林占比46.7%、东京电子占比25.6%、应用材料16.96%，这三家合计占90.24%），2020年中国大陆刻蚀设备厂商市场中，中微公司市场份额则为20%（仅次于泛林），目前已进入台积电、中芯国际、长江存储、联电、格罗方德等海内外晶圆厂中。
据中微2022年年报显示，其等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从 65 纳米到 14 纳米、7 纳米和 5 纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线；公司用于氮化镓基 LED 外延生产的 MOCVD 设备，自 2017年起已成为氮化镓（GaN）基 LED 市场份额最大的 MOCVD 设备供应商。
而包括中微公司2019年科创板上市在内的公开资料显示，此次中微公司与泛林的纠纷最早源于2009年1月，当时，泛林集团在台湾对中微提起两项专利侵权诉讼，泛林称中微公司型号为Primo D-RIE的等离子体蚀刻机侵害它的台湾专利 TW136706“电浆反应器中之多孔的电浆密封环”和TW126873“于电浆处理室中大量消除未局限电浆之聚焦环配置”，请求禁止中微制造销售使用相关侵权产品，后以2012年泛林两项发明专利全部被无效、泛林上诉被驳回而告一段落。
2010 年12 月，中微以科林及其大陆境内子公司泛林半导体、LIAO DANIEL JEEN-LONG（廖振隆）、Hsiao Wei Chang（张校维）、Rajinda Phindsa（赖金达·芬得萨）（五被告）侵犯中微商业秘密为由，向上海市第一中级人民法院提起诉讼，请求判令五被告禁止使用高端电浆刻蚀设备的技术信息（“相关商业秘密”），停止侵权，销毁所有含有相关商业秘密的信息及其载体（含相关培训材料、照片），并赔偿经济损失 5,000 万元并承担中微有限因诉讼发生的合理费用 91 万余元。
2017年3月，上海市第一中级人民法院判决科林立即销毁其持有的涉案电浆密封环照片，禁止科林、Hsiao Wei Chang（张校维）、Rajinda Phindsa（赖金达·芬得萨）披露、使用或者允许其他使用中微有限的技术秘密，判令科林赔偿中微有限诉讼相关支出 90 万元，并驳回中微关于科林停止侵权、 销毁其取得的培训资料、赔偿研发费用等其余诉讼请求，后2017年4月中微向上海市高级人民法院继续提起上诉，请求纠正一审认定的错误事实，撤销一审判决，改判支持中微有限一审的全部诉讼请求，科林则向上海市高级人民法院提起上诉，要求撤销一审的部分判决，判令由中微有限承担本案一、二审全部诉讼费用及一审鉴定费用等。
而此次中微披露的2023年6月的二审判令中，上海市高级人民法院最终判令科林研发为其侵犯商业秘密向中微公司支付赔偿金和法律费用。
除了与泛林的纠纷外，早在2007年10月，应用材料就曾在美国加州一家联邦法院院以商业秘密侵权为由对中微提起诉讼，中微与应用材料的诉讼最终以2010年1月双方签署和解协议和平解决；此外，2017年4月，维易科(VECO)也曾对中微的的基片托盘供应商SGL提起专利侵权，最终也以2018年2月以中微、维易科和零部件供应商SGL三家宣布和解而结束所有纠纷。
中微董事长尹志尧也曾在2020年对外演进中透露，中微创立十几年来与美国3家设备公司打了4场专利官司，其中3次是被美国设备公司起诉，1次是中微起诉美国公司，最终中微赢了2场，和解2场，无一败绩。
而这背后，无疑与中微公司的技术储备相关联，据中微公司2022年年报数据显示，截至2022年12月31日，中微公司已申请2,259项专利，其中发明专利1,938项；已获授权专利1,266项，其中发明专利1,097项。
有观点认为，中微自2007年起经历多起诉讼，尤其起初几年中微产品还未正式进入商业销售阶段，这种诉讼更像是企业间的一种商业竞争策略。
值得一提的是，根据The Information Network在SeekingAlpha发布的报告显示，三家与泛林集团（Lam）直接竞争的中国大陆公司中（中微公司AMEC、盛美上海ACM、拓荆科技Piotech），2021年泛林虽然占据刻蚀设备市场 47%的份额，占据清洁设备市场 13% 的份额，占据薄膜沉积设备PECVD市场 28% 的份额，但泛林2022年收入增速同比增长为12.9%，低于刻蚀设备竞争对手中微12.9%、清洁设备竞争对手盛美上海77.3%、薄膜沉积设备PECVD拓荆科技77.3%的增速，这表明泛林相应的份额受到了侵蚀。
此外，中国四家半导体设备厂商（中微、盛美上海、拓荆科技、华峰测控）2022年收入平均增速为69.4%，接近于非中国半导体设备厂商11.8%增长率的近6倍，表明中国半导体设备厂商虽然收入低于非中国同行，但正在获得更多的市场份额。
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