CINNO Research产业资讯,显示设备公司 Charm Engineering 赢得了与 Enjet 的专利纠纷,这场纠纷已经持续了大约三年时间。
据韩媒The Elec报道,6月7日,业内人士称,最高法院于6月1日驳回了Enjet对Charm Engineering提起的两次专利纠纷上诉。Enjet针对一项认定其专利无效的专利法院判决和一项不承认更正专利范围的专利法院判决向最高法院提出上诉,但均被驳回。
Enjet声称未经Charm Engineering许可使用的专利是“使用静电力的3D形状表面打印装置”(10-2012-0053734)。涉案专利是一项使用喷墨系统修复缺陷图案所需的技术。据了解,Charm Engineering回应称,他们拥有的专利可以制造相关设备。
据了解,Charm Engineering 和 Enjet 正在为三星显示 和LGD提供生产设备。当设备制造商之间发生专利纠纷时,三星显示和 LGD等客户会要求设备制造商提供解决方案。
此前,Enjet 就 2020 年的专利侵权向 Charm Engineering 发出警告。Enjet虽然警告专利侵权,但并未直接对Charm Engineering提起专利侵权诉讼。
虽然Charm Engineering回应Enjet未侵犯专利权,但在Enjet持续警告专利侵权后,Enjet于2020年5月向知识产权复审委员会提起专利无效宣告审理。次年 2021 年 5 月,知识产权法庭裁定(审判决定)Enjet 的部分专利有效。尽管知识产权审判和上诉委员会裁定 Enjet 专利的部分权利要求无效,但由于保留了部分有效权利,Enjet 最终胜诉。
但在2021年7月,Charm Engineering就专利法庭的审理决定向专利法院提起诉讼(撤销审理诉讼)。Charm Engineering 仍然坚持认为 Enjet 专利无效。
五个月后,即 2021 年 12 月,Enjet 向知识产权审判和上诉委员会提出了更正其专利权范围的请求。在2022年4月,知识产权法庭没有接受 Enjet 的请求。随后,2022年6月,Enjet向专利法院提起诉讼(撤销审理诉讼),对专利审理委员会的审理决定提出异议。
随后,专利法院将Charm Engineering 2021年提起的撤销审理决定诉讼和Enjet 2022年6月提起的撤销审理决定诉讼合并。这是因为涉及的专利是相同的。2023年1月,专利法院推翻知识产权复审委员会关于Enjet部分专利有效的判决,不受理Enjet再次请求更正专利权范围的诉讼请求。在这两种情况下,专利法院最终支持了 Charm Engineering的诉求。
随后,2023年2月,Enjet就这两起案件分别向最高法院提出上诉,在6月1日,最高法院驳回了Enjet的全部上诉。两家公司持续了约3年的专利纠纷也已尘埃落定。
季度全球半导体装备行业市场分析报告(大纲)
一、全球半导体装备企业市场规模分析(Top10)
二、中国大陆半导体装备行业市场投资情况分析
1. 中国大陆半导体装备行业季度投资规模分析
2. 中国大陆半导体装备行业季度投资区域分析
3. 中国大陆半导体装备行业季度投资分布分析
三、全球半导体装备行业新技术发展洞察
1. 全球半导体装备行业细分领域新技术趋势洞察
2. 中国大陆半导体装备行业细分领域技术发展洞察
四、全球半导体行业装备产业最新动态
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