股东情况：第一大股东为国家集成电路基金，中微公司持有公司总股本的11.20%，是公司第三大股东。
管理团队：董事长、总经理等在内的技术团队拥有泛林、美国诺发、 Mattson、 Intel等的CVD、ALD、量测、刻蚀等丰富的行业经验。
客户结构：中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内外主流晶圆厂客户， 已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。
市场地位：与北方华创、盛美、中微、芯源微、华海清科等同属于老牌半导体工艺设备厂商，主导PECVD、ALD、SACVD国产化， PECVD本土产线市占率17%， SACVD市占率25%。2021年收入已跨越1亿美元门槛。
核心技术：自主研发，关键性能参数达到国际同类设备水平， PECVD、 ALD及SACVD设备系列化产品已累计发货超150台。
在手订单：2021年底合同负债4.78亿元，相比2020年1.34亿元大幅增长。截至2021年9月10日，在手订单超15亿元。
募投项目：拟发行不超过3161.98万股（不低于25%），加快PECVD和ALD的先进工艺研发。
财务业绩：2021年收入7.58亿元增长74%，扣非净利润-0.82亿元。2022年一季度收入指引1-1.2亿元，同比增长73%-108%，扣非利润-0.3~-0.16亿元（上年同期-0.24亿元）。
拓荆科技股份有限公司简介 @ 2021年6月
拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆公司”或 “公司”）成立于2010年4月，于2021年1月12日整体变更为股份有限公司。公司总部位于辽宁省沈阳市浑南区，并在北京、上海、海宁成立三家子公司。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司多次承担国家重大科技专项，被中国半导体行业协会评为2016年度、2017年度、2019年度“中国半导体设备五强企业”。
公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，技术指标达到国际同类产品先进水平，产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等高端技术领域。目前，公司研发的PECVD、ALD及SACVD设备系列化产品已累计发货超150台，客户端总流片量突破1500万片。公司产品获得两届中国集成电路创新联盟的IC技术创新奖、辽宁省科技进步一等奖等荣誉。
公司现有十余名海外高层次专家，结合国内优秀人才，形成了一支国际化的专业团队，具备高科技研发实力及管理经验，截至2021年6月30日，公司员工总数超350人（含子公司）。通过多年技术积累，公司已形成自主知识产权体系，截至2021年6月30日，累计获授权专利超160项，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。
公司总部占地80亩、总建筑面积达40,000平方米，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房、先进和完备的无尘实验室及系列高端薄膜实验设备，用以研制和生产科技领先的半导体薄膜设备。公司产业化基地第一期生产能力可实现年产100台套，全部投产可达350台套设备，可以满足下游客户增产需求。
公司拥有覆盖全球的供应商网络，并在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心，可为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。公司运营管理体系已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证。
公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，共同为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。
