日本宣布7月开始限制六大类设备出口，将涉及TEL、KE、DNS、东京精密、Nikon、Ebara、日立高科技、爱德万、DISCO、LASERTEC等企业，也将利好一批中国企业。
半导体湿电子化学品与电子气体论坛2023将于4月26日在杭州召开。国际禁令对我国半导体设备与电子化学品和电子气体行业的影响，将是会议重点议题之一。
近日，蔡司官网发布消息称，蔡司半导体制造技术 (SMT) 部门Wetzlar工厂扩建工程开工。
图源：蔡司官网
据悉，蔡司已开始在德国Wetzlar扩建DUV光刻设备光学元件工厂，计划于2025年完成。未来，将有超过12,000平方米的面积用于开发和制造用于全球微芯片生产的光刻光学元件。此次扩张是蔡司对全球半导体行业对微芯片需求增长的回应。
二十多年来，Wetzlar一直是蔡司DUV光刻光学元件的生产基地之一，但现有的生产能力已达到极限。
来源：集微网
晶圆制造是当今工业制造皇冠上的明珠，高纯度湿电子化学品是晶圆制造过程中清洗、光刻、蚀刻等工艺流程的必备材料，也应用于后端的封装测试环节。SEMI预计2022年中国半导体用湿电子化学品市场规模为4.28亿美元，同比增长14.13%。
电子气体是半导体制造、显示制造等产业的主要耗材之一，是中国战略性新兴产业发展中必不可少的关键支持材料。近年来中国本土气体企业如派瑞特气、华特气体、南大光电等的部分产品已经进入国内外先进晶圆厂中。SEMI预计2022年国内电子气体市场规模可达11.13亿美元，同比增长14.15%。
未来三年将是中国半导体制造产业高速发展期，中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储等企业加速扩产，格科微、鼎泰匠芯、华润微等企业布局的多条8/12英寸晶圆生产线也将陆续投产，这将带动国内高于全球湿电子化学品与电子气体的需求增速。半导体电子化学品及气体将迎来空前发展机遇。
此外，清洗与抛光、湿法刻蚀及光刻显影、去胶等步骤需要湿法制程设备。以半导体清洗设备为例，根据亚化咨询预测，2025年全球市场将达近41亿美元，此外，清洗设备的国产化率仅在20%左右。未来国内湿制程设备将迎来广阔机遇。
由瑞士万通黄金赞助的第四届半导体湿电子化学品与电子气体论坛2023将于4月26日在杭州召开。会议由亚化咨询主办，多家国内外龙头企业重点参与。
会议主题
半导体光刻功能性湿化学品及气体
半导体清洗剂的现状及替代品
半导体CMP抛光研磨液
含硅特种气体及其前驱体
半导体用大宗气体市场情况
半导体用干刻、清洗气体
电子级氢氟酸的纯化技术及技术发展
半导体级双氧水、硫酸在先进晶圆厂中的应用
半导体封装用电镀液市场及发展
清洗设备、涂胶显影设备与技术
湿法刻蚀设备的发展与国内技术
湿法制程与湿电子化学品的配套
最新会议日程如下：
会议日程 |
电子级超纯氨/氧化亚氮的生产及应用（题目暂定） ——苏州金宏气体股份有限公司（已定） |
PFA热模压精馏塔在湿电子化学品的应用 ——河南聚氟兴新材料科技有限公司（已定） |
赛默飞湿电子化学品关键指标检测技术解决方案 ——赛默飞世尔科技公司（已定） |
电子级硫酸的生产工艺及应用（题目暂定） ——联仕（昆山）化学材料有限公司（已定） |
离子色谱在高纯试剂检测方面的技术进展介绍 ——Metrohm瑞士万通中国有限公司（已定） |
泛半导体清洗设备介绍（题目暂定） ——北京华林嘉业科技有限公司（已定） |
全球半导体电子化学品需求及行业发展 ——Linx Consulting（已定） |
电子级氨水、双氧水在先进晶圆厂中的应用（题目暂定） ——苏州晶瑞化学股份有限公司（已定） |
TOPCon电池大产能湿法设备的技术及应用 ——苏州晶洲装备科技有限公司（已定） |
国内晶圆厂湿电子化学品需求展望 ——亚化咨询（已定） |
半导体用高纯NF3及SF6的市场及应用 ——中船重工（邯郸）派瑞特种气体有限公司（邀请中） |
半导体电镀液、清洗液工艺及应用 ——上海新阳半导体材料股份有限公司（邀请中） |
半导体级氢类特气介绍及应用 ——全椒南大光电材料有限公司（邀请中） |
电子级氢氟酸、双氧水的用量需求及行业发展 ——索尔维蓝天（衢州）化学品有限公司（邀请中） |
*以上演讲报告列表将随着会议邀请工作进展不断更新，最终版以会场发布为准。
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