23类!日本,升级出口限制!

传感器技术 2023-04-01 07:05

导读:3月31日据路透社报道,日本政府称将从7月份开始对23种半导体制造设备进行出口限制。
在出口管制清单中新增23项半导体设备,它们被分成了6大类:
清洗设备(3项)、薄膜沉积设备(11项)、热处理设备(1项)、光刻/曝光设备(4项)、刻蚀设备(1项)、测试设备(1项)。
由于担心它们被用于非商业用途,日本厂家在对外出口时需要经济产业相的事先批准。

图:Nikon的ArF光刻机


涉及:10nm-14nm以下

报道称,日本政府出台的这项管制措施与美国对华出口管制保持一致,以进一步配合美国遏制中国的先进芯片制造能力。而在此之前,荷兰已经公布管制措施,但日本政府甚至从未公开承认与美荷达成半导体出口管制协议。

据日本贸工部在一份新闻稿中表示,将对用于芯片制造的六类半导体设备实施出口管制,其中包括前道工艺最核心的清洁、沉积、光刻和蚀刻。同时,该文件并没有直接将中国指定为这些措施的目标,称设备制造商将需要为所有地区寻求出口许可。

“我们正在履行我们作为一个技术国家的责任,为国际和平与稳定做出贡献,”日本贸工部表示,并补充称其目标是阻止先进技术被用于军事目的,近期发出类似表态的,还有德国政府,见山雨欲来!德经济部长:考虑跟进对华出口管制及“排除”华为。

对被限制出口的目标国家而言,从23个品类的产品看,以逻辑芯片的性能衡量,它们均为制造10nm-14nm以下的尖端产品所必须的设备。


7月份之后,大凡购买了这些设备的厂家,都面临着后续维护与升级的难题。原计划扩大产能的厂家,将面临着无设备可用的局面。


图:TEL的设备覆盖各工艺环节


一揽子管制:点名10家企业

据悉,这项将于7月生效的出口限制可能会影响到十几家日本公司生产的设备,例如两家核心设备供应商尼康(Nikon)和东京电子(TEL),前者是全球第二大DUV光刻机制造商,后者控制了全球90%的涂胶显影设备。

目前来看,这项管制措施就像直接瞄准Nikon和TEL的核心产品线,后者26%的设备营收直接来自中国大陆。也意味着,上述两家的在华大客户业务接下来将面临类似AMAT、Lam和KLA的打击和裁员。

这一揽子管制物项,涉及日本的10多家半导体设备公司。已经被点名的企业包括:DUV光刻机大厂尼康、刻蚀巨头东京电子、清洗设备龙头Screen Holdings、测试设备要角爱德万测试等。


日方认为管制措施,对企业的影响非常有限。


图:光刻胶


来源:芯片大师、半导体门户等

   

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