第四届半导体湿电子化学品与电子气体论坛将于4月26日在苏州召开
湿法制程设备与技术论坛2023将于4月27-28日在苏州召开
2月9日，证监会披露了关于上海大族富创得科技股份有限公司（简称：上海富创得）首次公开发行股票并上市辅导备案报告。
据了解，上海富创得是大族激光的控股子公司（子公司美国富创得成立于1979年，于16年被收购进入大族体系），其持股比例为76.50%。
上海富创得于2017年3月入驻上海市闵行区大族企业湾园区，项目总投资2亿元，第一期投入5000平方米厂房使用。公司在半导体行业拥有近40年的技术积累和经验传承，在晶圆片传输（SORTER/EFEM）技术、标准机械界面（SMIF）技术、超洁净光罩片/EUV自动化解决方案、无人车（AGV）自动搬运、晶圆级洁净室自动存储系统和RFID物流追踪系统等技术上拥有国内最先进的技术，为国内半导体生产线自动化提供行业内最权威的流体整合方案。
美国富创得为上海富创得全资子公司，目前员工总数约20人，专注于“光刻机前端自动化设备”的研发和销售业务，服务对象以欧美半导体市场为主。公司自1979年成立以来，专注半导体晶圆自动化领域超过40年，积累了丰富的行业经验和客户资源，其专利和技术积累已全部转移到上海富创得，使上海富创得公司成为全球化国际公司，业务可以覆盖全球市场及客户。
富创得公司产品定位为“半导体晶圆传输系统及核心组件制造商”，业务定位为“晶圆及类晶圆传输系统（含存储）及核心组件制造商，半导体、泛半导体及其他行业相关技术和专利扩展应用授权商”，全力投入“半导体晶圆传输系统及核心组件的研发、生产和销售，致力打造半导体晶圆传输系统的整体解决方案。
来源：集微网
晶圆制造是当今工业制造皇冠上的明珠，高纯度湿电子化学品是晶圆制造过程中清洗、光刻、蚀刻等工艺流程的必备材料，也应用于后端的封装测试环节。SEMI预计2022年中国半导体用湿电子化学品市场规模为4.28亿美元，同比增长14.13%。
电子气体是半导体制造、显示制造等产业的主要耗材之一，是中国战略性新兴产业发展中必不可少的关键支持材料。近年来中国本土气体企业如派瑞特气、华特气体、南大光电等的部分产品已经进入国内外先进晶圆厂中。SEMI预计2022年国内电子气体市场规模可达11.13亿美元，同比增长14.15%。
未来三年将是中国半导体制造产业高速发展期，中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储等企业加速扩产，格科微、鼎泰匠芯、华润微等企业布局的多条8/12英寸晶圆生产线也将陆续投产，这将带动国内高于全球湿电子化学品与电子气体的需求增速。
在出口管制限制、实体清单打压以及各国不同版本芯片法案频出强化本土供应链背景下，半导体产业链安全愈发重要，同时国产化率较低及突破品种不足仍表明，培养稳定的本土材料供应商势在必行，这将给国内企业带来巨大的机遇。半导体电子化学品及气体将迎来空前发展机遇。
第四届半导体湿电子化学品与电子气体论坛2023将于4月26日在苏州召开。会议由亚化咨询主办，多家国内外龙头企业重点参与。
会议主题
1、含硅特种气体及其前驱体
2、半导体用大宗气体市场情况
3、半导体用干刻、清洗气体
4、半导体光刻功能性湿化学品及气体
5、半导体清洗剂的现状及替代品
6、半导体CMP抛光研磨液
7、电子级氢氟酸的纯化技术及技术发展
8、半导体级双氧水、硫酸在先进晶圆厂中的应用
9、半导体封装用电镀液市场及发展
10、半导体湿电子化学品废液处理技术
湿法制程（工艺）即制造过程中需要使用化学药液的工艺，被广泛使用于集成电路、平板显示、太阳能光伏等领域的制造过程中。以集成电路领域为例，晶圆制造过程共有七大工艺步骤，分别为氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、清洗与抛光、金属化。其中，清洗与抛光、湿法刻蚀及光刻的显影、去胶等步骤所对应的专用设备就包含了湿法制程设备。
半导体专用设备在半导体行业产业链中占据重要的地位，且市场规模庞大。根据SEMI的统计数据，2021年全球半导体制造设备市场达到1030亿美元，估计2022年增长5.9%达到1085亿美元。此外，随着本土晶圆厂不断扩建投产，国内设备市场成长性高于全球，国内设备商受益于国产替代，业绩表现强劲。
更高精度的制程需要成倍于成熟工艺的湿法工序，设备作为湿制程中成本占比最高的部分，市场规模也不容小觑。以半导体清洗设备为例，根据亚化咨询预测，2025年全球市场将达到近41亿美元的规模。此外，清洗设备的国产化率仅在20%左右，可见未来国内湿制程设备的广阔机遇。
湿法制程设备与技术论坛2023将于4月27-28日在苏州召开，探讨新形势下湿制程设备产业发展的现状与趋势、上下游市场产生的新需求等问题，为湿制程设备业持续发展提供坚实的支撑。会后，论坛还将组织特有的产业链对接互动等活动。
会议主题
1、半导体设备行业经济运行剖析和成长展望
2、中国半导体设备行业支撑政策讨论
3、涂胶显影设备介绍及技术能力展示
4、清洗设备制造介绍与国内技术
5、湿法刻蚀设备的发展与国内技术
6、半导体技术革新对设备产生的新需求
7、湿制程配套大宗湿电子化学品产业现状及发展
8、功能性湿电子化学品（抛光/去胶/刻蚀液等）产业现状及发展
9、湿制程设备及材料的国产化现状
10、产业园区参观
若您有意向参会、赞助及做演讲报告，欢迎联系我们（联系方式请参见文中及文末配图）
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