Micro LED | MOVCD、封装机的需求增加,带动量产设备的需求

CINNO 2019-04-09 07:30

CINNO Research 产业资讯,Micro LED 作为新时代的显示技术,备受瞩目。就其生产方式来说,无论是采取生产红、绿、蓝(RGB)并封装UV LED 芯片的方式,或在同一个晶圆上单色制作一种颜色并将这一颜色转换成RGB的方式,或使用完全不同的生产方式,达到量产都还有很多困难需要克服,但是生产设备方面的业务却逐步朝着商业化方面发展。我在此总结了Micro LED设备方面的业务情况。

MOCVD方面的业务集中在两家公司

MOCVD(Metal-organic Chemical Vapor Deposition,金属有机化合物化学气相沉淀)设备是生产LED芯片发光层不可或缺的重要设备,但是,Micro LED的芯片尺寸极其微小,仅有几十um,是一般LED的1/100左右,所以生产芯片后的分级(Binning)和分拣(Sorting)极其困难。为此,有必要尽可能地把晶圆(Wafer)的波长和发光强度做到均匀,如果可以实现,Micro LED的良率就会提高,价格也会降低。

从这个角度来看,引领Micro LED市场的MOCVD设备方面的业务集中在德国的Aixtron和美国的Veeco Instruments两家公司。

Aixtron不仅致力于蓝色、绿色的GaN基LED设备,红色AsP基LED的MOCVD的市场份额也非常高,并且具有优势。Aixtron已经获得了GaN基方面的“AIX G5+ C”、AsP基方面的“AIX 2800G4-TM”的订单,总部位于瑞典的Micro LED投资公司glo的美国法人glo-USA首先向其订购设备,后来也从力求实现量产Monolithic GaN on Silicon Micro LED的英国公司Plessey Semiconductors、Play Nitride(錼創科技股份有限公司,正在建设全球首例Micro LED芯片专用量产工厂)获得了订单。

另一方面,Veeco在量产绿色LED专用的MOCVD设备方面占有极高的市场份额,并且正在大力促进与Micro LED企业的联合开发,例如德国的ALLOS Semiconductors、加拿大的VueReal都有合作。

其中,与德国的ALLOS Semiconductors共同发布说,已经成功开发了用于Micro LED的GaN on Silicon Epitaxial Wafer技术。通过使用Veeco的MOCVD“Propel”提高了200mm Epitaxial Wafer(磊晶晶圆、外延片)的技术水准,把每个晶圆的平均波长偏差控制在1.21nm,峰值(Peak)波长成功地控制在±0.5nm。作为行业追求的目标值,Epitaxial Wafer(磊晶晶圆)的波长为±1nm、Bin为±4nm,然而两家公司共同开发获得了平均波长偏差为0.85nm的最佳晶圆(Best Wafer)。

据ALLOS Semiconductors的CEO Burkhard Slischka先生透露:“这一技术可以马上用于200mm晶圆,下一个目标就是波长±1nm的Epitaxial Wafer(磊晶晶圆)!另外,我们也有一个把此技术应用于300mm晶圆的技术蓝图。”

德国的Aixtron 的MOCVD设备“AIX2800G4-TM”(图片出自:电子Device 产业新闻)

质量传输(Mass Transfer)方面的“主角”是FC Bonder厂家

单独生产RGB和UV芯片,并把它们用于像素来生产显示屏的话,面临的挑战是如何确立技术和设备来大批量、高精度地封装尺寸只有几十um的极小LED芯片。作为芯片的“批量转移方法”,当前最接近实用化的是一种被称为“质量传输(Mass Transfer)”的技术,总之就是批量倒装芯片(FC,Flip chip)工艺。

当形成Micro LED的发光层时,仅剥离来自底层基板(如果是蓝色绿色、UV的话,就是蓝宝石“Sapphire”、硅、SiC、GaN等;红色的话就是GaAs)的发光层,并且作为薄膜芯片封装在显示屏基板上。为此,质量传输(Mass Transfer)方面占优势的企业中有很多是FC Bonder厂家,虽然还没有迄今为止的出货实绩,但是在日本国内的Toray Engineering(东丽工程株式会社)、Shibaura  Mechatronics Corporation(芝浦机电株式会社)、TDK(东电化),以及海外的K&S(Kulicke & Soffa,库力索法)、ASM Assmbly(德国先进装配系统有限公司)等都在进行开发。一般认为当前的单次可传送芯片数量约为5,000-10,000片(根据显示屏的尺寸、像素不同而不同),并且需要进一步再提高传送数量。

2018年9月K&S宣布称,通过与从事于开发Mini & Micro LED的美国投资企业Rohinni合作,开发了一款用于Mini LED的封装解决方案——“PIXALUX”(也就是Bonding设备),而且客户已经开始评估此设备。PIXALUX可以兼容Mini & Micro LED的超小型Die,通过超高速配置头(Head)设计,提高了产量和良率。通过在多个类型的基板上高精度地配置LED和IC、配备10个对应晶圆载具(Wafer Carrier)的料盒(Wafer Magazine)、一步式(One Step)自动晶圆装载(Wafer Loarding),使用起来极其方便。

两家公司在2018年5月建立了合作伙伴关系,并一直致力于研发。据说Rohinni拥有一种独自研发的封装技术,在消费电子方面利用此技术可以在精度为±10nm的情况下良率达到99.999%,这比当今的芯片取放技术(Pick and Place)要快3-5倍,Rohinni与加拿大的车载产品厂家Magna International合作在美国密歇根州的Holly成立了车载照明的合资公司“Magna Rohinni Automotive”,据说这家合资公司也将使用“PIXALUX”。

单一成形(Monolithic)方面晶圆贴合也有需求

单一成形的Micro LED方面,晶圆贴合设备的需求逐渐增长,Plessey Semiconductors向奥利地的EV集团(EVG)下了晶圆贴合设备“GEMINI”的订单。

Plessey Semiconductors为了实现单一成形(Monolithic) GaN  on Silicon Micro LED的量产,于2018年9月与持有 Silicon Backplane(硅驱动线路,硅背板)技术的Jesper Display(JDC,台湾新竹市)建立了战略伙伴关系。Plessey的目的在于通过利用JDC的硅背板驱动来实现在GaN on Silicon 晶圆上制造Micro LED显示屏。预计GEMINI将被用于Micro LED阵列(Array)和背板的贴合。GEMINI配备了已持有专利的Smart View NT自动贴合校准(Alignment)技术,可以实现高精度的晶圆贴合(Wafer Bonding)。最大可以处理300mm的晶圆。

EVG的晶圆贴合设备“GEMINI”(图片出自:电子Device 产业新闻)

V-TECH通过自主研发的技术获得订单

如上所述,一部分企业在不断刷新现存半导体、LED生产技术的同时,也在继续优化Micro LED的量产,然而,也有设备厂商在创造新的生产工艺。其中的代表就是V-Technology(简称V-Tech)。

关于V-Tech的新工艺在本栏目的第281回的“Micro LED 显示屏,V-Tech新技术”(https://www.sangyo-times.jp/article.aspx?ID=2852)中有介绍。另外,V-Tech在2018年9月公布说,已经获得了Laser Lift Off(LLO、把LED薄膜发光层从底层基板上剥离)设备和LED移动设备的订单,LLO设备采用了V-Tech独自研发的技术,是专门用于柔性Micro LED显示屏的。此次技术开发也得到了Nitride Semiconductors株式会社(Micro LED业务由子公司Micro Nitride负责)提供的UV Micro LED芯片支持,期待他们今后更进一步的技术发展。

如果能够实现,将是新时代FPD设备的主角

假设用Micro LED实现了4K显示屏,4K=830万像素*RGB Sub Pixel,那么就必须准确地封装大约2,500万个芯片。如果是超过100英寸的大型显示屏,芯片的封装间距(Pitch)可以不是那么严格,如果在电脑、智能手机的屏幕上实现4K的话,封装难度将更高。

由于预测到如此高的生产难度,很多专家认为Micro LED显示屏“不现实”,如果能够量产的话,半导体生产设备将会成为新一代的FPD生产设备。虽然难度比较高,但我们非常期待设备厂家可以开发更高的技术。

Micro LED相关的设备订单及共同开发项目

电子 Device 产业新闻调查。(图片出自:电子 Device 产业新闻)

(来源:电子Device 产业新闻/编译:Sammy)

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