12月5日,半导体清洗设备企业盛美上海披露投资者关系记录表,盛美上海表示,目前,公司已有1台ECP、3台PR清洗设备及1台单片清洗设备交付国际客户在中国的FAB厂,两台单片兆声波清洗设备已经交付美国头部客户,调试工作进行顺利。国际销售团队正在积极开拓中国台湾,韩国,欧洲大客户。
盛美上海主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。盛美上海的ALD设备在今年九月份已经交付客户,正在验证中,估计将于2023年验证完成。对明年炉管设备的销售预期:高真空合金回火炉、LPCVD、高温氧化扩散炉以及ALD都有重复及新客户订单,期待明年是炉管设备销售的爆发增长年。
盛美上海称,今年,公司的镀铜设备销售的很好,出货量较去年大幅增长。主要是获得一家前道客户的大量订单以及一家封装客户的10台批量订单。在客户导入方面,今年公司获得一家台资企业的重复订单。整体来看,预计明年公司镀铜设备仍会保持快速增长。
据了解,过去盛美上海的清洗设备只有单片,从2019年盛美上海槽式清洗设备开始贡献收入。去年十月份,公司单片清洗设备累计达到了2000腔的出货量,今年十一月份单片清洗设备累计达到了3000腔的出货量,在一年多点的时间内,公司单片设备增长迅速。同时,今年公司槽式设备对清洗设备的订单总量有贡献,所以从相对比例来看,清洗设备整体销售量的所占比例并没有下降,还是维持在70%左右。
在先进制程领域主要使用单片设备。具体来看,在45纳米及以上,槽式设备占比80%左右,单片占比20%左右;在28纳米及以下则由槽式转向单片,此时单片占比到80%左右,槽式为20%左右。盛美上海指出,目前来看,国内的成熟制程的产线依旧保持扩张,在未来3-5年内公司坚定的看好国内45纳米和28纳米制程的发展。同时,公司在28纳米和45纳米制成程均有产品出售,未来增长空间可期。
此外,盛美上海认为,受到经济大环境下行影响,先进封装市场需求有所放缓,由此导致公司在该市场的增长放慢。但预计随着经济的恢复,封装市场需求一定会增长起来。公司在封装设备布局是比较全面的。同时,公司在国内、国际市场都有独特地位,拥有一站式销售优势且产品齐全,具备较强的市场竞争优势。
来源:全球半导体观察
化学机械抛光(CMP)是实现晶圆全局平坦化的关键工艺。CMP工艺贯穿硅片制造、集成电路制造与封装测试环节。抛光液和抛光垫是CMP工艺的核心耗材,占据CMP材料市场80%以上。 鼎龙股份、华海清科为代表的CMP材料与设备企业受到行业重点关注。
靶材是制备功能薄膜的核心原材料,主要用于半导体、面板、光伏等领域,实现导电或阻挡等功能。在半导体几大材料中,靶材是国产化程度最高的一种。国产铝、铜、钼等靶材领域取得突破,主要上市公司有江丰电子、有研新材、阿石创、隆华科技等。
未来三年将是中国半导体制造产业高速发展期,中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储、士兰微等企业加速扩产,格科微、鼎泰匠芯、华润微等企业布局的12英寸晶圆生产线也将陆续投产,这将带来巨大的CMP材料与靶材需求。
新形势下,国内晶圆厂供应链安全越发重要,培养稳定的本土材料供应商势在必行,这也将给国内供应商带来巨大的机遇。靶材的成功经验,也将给其他材料的国产化发展提供借鉴。
半导体CMP材料与靶材研讨会2022将于12月29日在苏州召开。会议由亚化咨询主办,多家国内外龙头企业重点参与。
会议主题
1.中国CMP材料与靶材政策与市场趋势
2.美国制裁对国内半导体材料供应链的影响
3.CMP材料与靶材市场与重点企业分析
4.半导体CMP抛光研磨液
5.CMP抛光垫与清洗液
6.CMP抛光设备进展
7.半导体靶材市场供需
8.半导体靶材重点企业动向
9.CMP与靶材技术进展
10.靶材国产化经验及借鉴
第3届第三代半导体论坛将于2022年12月28日召开。多家国内外龙头企业参会,重点关注碳化硅、氮化镓上下游产业链;最新衬底、外延、器件加工工艺和生产技术;展望氧化镓、氮化铝、金刚石、氧化锌等宽禁带半导体前沿技术研究深度进展。并将参观国内第三代半导体材料与设备产业园区和重点企业。
会议主题
1. 美国芯片禁令对中国第三代半导体发展的影响
2. 全球与中国第三代半导体市场及产业发展现状
3. 晶圆产能供需与第三代半导体市场机遇
4. 6吋SiC项目投资与市场需求展望
5. SiC PVT长晶技术&液相法的现状及发展
6. 8吋SiC国产化进程和技术突破
7. SiC市场以及技术发展难题&解决方案
8. GaN射频器件及模块在5G基站方面的应用
9. GaN在快充市场中的发展及替代情况
10. GaN激光器件技术和市场应用
11. 国产化与技术及设备发展机遇与挑战
12. 其他第三代半导体发展前景
13. 工业参观与考察(重点企业或园区)
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