据麦姆斯咨询报道，2022年9月，上海复享光学股份有限公司（以下简称“复享光学”）通过与头部客户的深度打磨和产线验证，历时一年，完成了针对刻蚀应用场景的光谱仪—ZURO系列产品的研发与量产导入，为集成电路产业提供了面向6、8、12寸制程刻蚀工艺的光谱检测解决方案。
ZURO系列光谱仪匹配半导体行业标准，满足针对金属刻蚀、单多晶硅刻蚀、化合物刻蚀及高速清洗等多个应用场景需求，具有信号精准、性能长期稳定、Fab生产环境适应等特点。该系列产品具备高灵敏、高信噪比等优势，单帧采集最大动态范围突破40000:1，优于同类国外产品，能够有效提取深孔和多晶硅刻蚀过程中的弱信号。
此外，为ZURO系列光谱仪配备的软件，ideaEPD是一款由复享光学深入客户应用开发的Fab工艺专用软件，支持自定义终点算法、工艺终点分析、高速采样监控、刻蚀深度监控等功能，能实现多达10台腔体的同时监控。复享光学已完成ZURO系列产品的国产验证与量产准备，能为客户进行差异化的定制开发，解决头部客户的关键光学零部件供应安全问题。目前，复享光学的多系列光谱模组产品已经获得多家半导体头部客户的验证、生产导入及小批量订单。随着对需求响应的不断深入和工程参数的持续优化，复享光学从起量阶段逐步进入到放量阶段，以光谱硬科技助力产业发展。
复享光学历时十年，深耕微纳光电子领域，发展智能化全光谱技术，着力于光子学与人工智能的融合，形成了算法驱动的深度光谱平台，成为了中国领先的晶圆级制造与量检测设备关键零部件光谱模组供应商。
复享光学创始团队出身于国内资深光子学研究实验室，在发展中进一步吸纳了海内外微纳光电子领域知名研究人员和半导体产业专家，已拥有近百项知识产权。
值得一提的是，复享光学于2019年获批成立“上海微纳制程智能检测工程技术研究中心”，这是国内首个在半导体领域开展微纳制程光学量检测技术研究的应用平台。为进一步探索集成电路领域光检测基础技术，公司于2021年与复旦大学共同建立“光检测与光集成校企联合研究中心”，致力于攻关微纳制造产业中更为前沿的共性关键技术与工艺问题。
据复享光学介绍，随着集成电路制程先进工艺的不断提升和新型光电子芯片应用的兴起，晶圆制造工艺的量检测需求日益凸显。光学衍射极限的存在使得成像技术难以满足产业发展需求，光谱分析技术已存在于各类微纳制造与量检测设备之中，成为支撑集成电路和光电子芯片产业制造工艺的关键技术之一。
半导体设备是半导体产业的基础。晶圆前道制造是半导体制程中最重要的阶段。光刻、薄膜沉积、刻蚀、掺杂、表面处理等环节的工艺中与工艺间控制都需要用到多种光学与电学检测手段，是确保晶圆生产良率的关键。随着制程精度的提升，光学检测的比重将进一步扩大。纵观当前集成电路制造过程中的量检测设备，都离不开深度光谱技术。据行研报告了解，目前，我国半导体设备国产化率尚不足10%，关键零部件不足1%，光谱模组则几乎为零，“产业链全面国产化”已成为这个时代的一大主题。
复享光学作为国内光学领域领军企业，提供芯片制程工艺控制中各类光谱模组及量检测解决方案。通过十年的行业积累，公司已拥有超3000家优质客户，成功进入半导体产业头部企业的供应商名录，并与超170家半导体、高端材料、生物医药企业形成交流与合作。
赋能中国微纳制造，将是复享光学未来一段时期内的首要任务。复享光学创始人殷海玮博士表示，接下来一年，公司将持续聚焦高端光谱模组的品质提升、技术迭代以及产能扩大，以进一步满足下游设备企业需求。
复享光学于2021年完成超亿元B轮融资，由半导体头部产业基金中芯聚源领投，上海科创集团、中科创星、长江证券、海通证券、泰坦科技跟投。据悉，复享光学近期将启动C轮融资，资金用于高端人才扩充、生产场地扩容、研发设备升级，以及微纳制造领域前沿技术布局等战略方向。
延伸阅读：
《光谱成像市场和趋势-2022版》
《小型、微型和芯片级光谱仪技术及市场-2020版》
