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6月17日消息,据国外媒体报道,在今日举办的2022年北美技术论坛上,台积电正式推出了N2(2纳米级)制程技术,将于2025年量产。
据悉,台积电首次全面公开了旗下的3nm及2nm工艺技术指标,相比3nm工艺,在相同功耗下,2nm速度快10~15%;相同速度下,功耗降低25~30%。
然而性能及功耗看着还不错,但台积电的2nm工艺在晶体管密度上挤牙膏,只提升了10%,按照摩尔定律来看的话,新一代工艺的密度提升是100%才行,实际中也能达到70-80%以上才能算新一代工艺。
台积电没有解释为何2nm的密度提升如此低,很有可能跟使用的纳米片电晶体管(Nanosheet)技术有关,毕竟这是新一代晶体管结构,考验很多。
密度提升只有10%的话,对苹果及、AMD、高通、NVIDIA等客户来说,这是不利于芯片提升的,要么就只能将芯片面积做大,这无疑会增加成本。
更重要的是,台积电表示2nm工艺要到2025年才能量产,意味着芯片出货都要2026年了,4年后才能看到,工艺升级的时间也要比之前的5nm、3nm更长。
台积电在2nm工艺上的挤牙膏,倒是给了Intel一个机会,因为后者预计在2024年就要量产20A工艺及改进版的18A工艺了,同样也是“2nm”级别的。
目前两家的2nm工艺都是PPT上的,但是台积电这次的2nm工艺表现不尽如人意,这让Intel励志重回半导体工艺第一的目标有了可能。
台积电是全球最大的晶圆代工半导体制造厂,其客户包括苹果、高通和华为等。按照该公司给出的指标显示,2纳米工艺是一个重要节点。
据报道,台积电将在从2025年下半年开始使用N2节点来大量生产芯片。因此,鉴于当代半导体的生产周期,商用2纳米芯片预计将在2025年底或2026年上市。
台积电推出N2制程技术之际,其主要行业竞争对手也制定了类似的路线图。三星表示,将在2025年前开始生产2纳米芯片。英特尔的目标是,在2024年底之前生产更先进的芯片。
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