【视频回看+PPT分享】源象化学总经理娄夏冰分享：原子层沉积（ALD）前驱体回顾与展望

2022年4月28日（周四）晚19:00-20:00，DT新材料特邀上海源象化学有限公司总经理娄夏冰博士分享《ALD前驱体回顾与展望》。温故而知新，有内涵的报告需要多次学习，错过的小伙伴可以扫描回看哦！

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嘉宾介绍：

娄夏冰，上海源象化学总经理。复旦大学化学学士，哈佛大学化学博士。

公司介绍：

上海源象化学有限公司创立于2021年，是一家专业从事提供和开发用于化学气相沉积和原子层沉积薄膜材料所需的特种电子化学品—即CVD和ALD前驱体源，以支持相关科研院校在半导体、显示、纳米、新能源、催化等领域的学术研究。公司在苏州建设有2000平方米的研发中心和多条生产实验线，产品种类丰富。拥有完善的检测条件包括大型洁净室和ICP-MS等。团队主要由具有国际和国内著名高校教育背景的博士和硕士组成，从业经验丰富。公司产品种类丰富，可以提供文献专利中已经使用过的（目前常用的大多数）前驱体源，也可以提供新型前驱体源的设计制备服务。

公司官网：http://www.oriphant.com/about_us/

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