半导体杂质检测难?安捷伦领跑半导体检测设备,亮相CarbonSemi2022!

DT半导体材料 2022-03-21 18:00


电子信息时代下,移动互联、智能化技术浪潮激发上游半导体产业爆发式增长。现阶段,半导体产业中,中国的崛起已是不争的事实。半导体是现代电子产品的核心,应用于从智能手机到汽车的所有领域。随着半导体行业的发展,器件变得更小、更快、更可靠、更强大。


在半导体设计、制造、封装中的各个环节都要进行反复多次的检测、测试以确保产品质量,从而研发出符合系统要求的器件。其中,相关的缺陷引起的故障成本高昂,从IC级别的数十美元,到模块级别的数百美元,乃至应用端级别的数千美元。保障产品良率是半导体厂商最为关注的问题。


然而,影响产品良率的原因有很多,污染无疑是其中非常重要的因素。业内人士估计,污染造成了约50%的产量损失。因此,工欲善其事,必先利其器,检测设备从设计验证到整个半导体制造过程都具有无法替代的重要地位。目前,我国半导体材料国产化替代市场需求期望大、发展空间广阔,同时各方资源共同推动行业上游材料、设备的进步。


尤其是从上世纪70年代到今天,芯片制程已经从“微米”时代,经过“纳米”时代,发展到了今天10纳米以下。随着元件缩小到单个纳米尺度,对控制晶圆、电子化学品、电子特气和靶材等原材料中的污染物和杂质的含量的控制至关重要,因为即使是超痕量杂质污染物也会造成器件缺陷,降低制造产量,导致产品可靠性问题,或导致产品故障。


所以,半导体和电子产品中的杂质分析必须在整个制造过程的每个阶段进行,从测试晶圆片、原材料和工艺化学品到最终产品的质量保证/质量控制。另外,真空的控制也贯穿半导体全产业链的装置制造、传感器制造、控制器件制造过程等先进制造环节。


然而半导体杂质含量通常在ppt级,ICP-MS分析时用到的氩气及样品基体都很容易产生多原子离子干扰,标准模式、碰撞模式下很难在高本底干扰的情况下分析痕量的目标元素。


作为半导体领域的全球领导者,自 20 世纪 80 年代后期以来,安捷伦与领先的半导体制造商和化学品供应商密切合作,开发针对半导体产业链分析技术和监测技术,应对半导体行业的分析调整,并始终处于创新最前沿。


安捷伦积累了的大量创新技术和卓越的服务能力,在半导体产业链中的制程监测、原材料质控、无机杂质、纳米颗粒、有机杂质检测,符合环境健康和安全法规需求,以及真空检漏等方面,安捷伦都会提供分析仪器、软件、服务和支持。


2022年5月18-20日安捷伦亮相由DT新材料主办的第二届碳基半导体材料与器件产业发展论坛(CarbonSemi 2022)展位号A9,相约浙江宁波东港喜来登酒店,欢迎大家莅临展位参观交流!


关于安捷伦科技公司


安捷伦科技公司(纽约证交所:A)是生命科学、诊断和应用化学市场领域的全球领导者,致力于提供敏锐洞察与创新,帮助提高生活质量。我们的仪器、软件、服务、解决方案和专家能够为客户最具挑战性的难题提供更可靠的答案。在 2021 财年,安捷伦的营业收入为 63.4 亿美元,全球员工数为 17000 人。如需了解安捷伦公司的详细信息,请访问 www.agilent.com。

Agilent 8900 串联四极杆 ICP-MS

Agilent 8900 串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS) 是行业中成功且应用广泛的串联电感耦合等离子体质谱仪。Agilent 8900 ICP-MS/MS 提供了一系列配置,适合从常规商业分析到高级研究和高纯度材料分析的应用,其重新定义了 ICP-MS 性能,可提供可靠的分析结果。8900 系统具有与安捷伦市场领先的单四极杆 ICP-MS 系统相同的基质耐受性和稳定性,并与超高效的氦 (He) 碰撞模式相结合。但 8900 系统增加了串联质谱操作 (ICP-MS/MS),可对碰撞反应池 (CRC) 中的反应化学过程进行精确的控制,使其成为强大、灵活的多元素分析仪。

   特性

MS/MS 控制反应化学过程,可确保提供一致、可靠的结果,即使对于此前难以分析的元素(如 Si、P 和 S)也是如此;

反应化学过程可解决同量异位素重叠问题,这超出了高分辨率 ICP-MS 的能力;

四通道反应池气体控制可提供快速、灵活的多模式操作;

一套预设方法简化了常规分析的方法设置;

氦气模式可简单、有效地控制常见的多原子干扰;

稳定的(低 CeO/Ce)等离子体,可提供出色的基质耐受性;

超高基质进样 (UHMI) 技术可耐受总溶解固体量 (TDS) 高达 25% 的样品;

高灵敏度和低背景为超痕量分析物提供了超低的检测限;

通用性和高性能相结合,支持高级研究和要求苛刻的应用;

灵活的操作模式(母离子/产物离子扫描)支持对反应化学模式进行研究。


Agilent 5800 ICP-OES

Agilent 5800 ICP-OES 是一款专为业务繁忙的实验室而设计的 ICP-OES 仪器,旨在帮助实验室节约浪费的时间。这款智能 ICP 采用包含内置传感器、算法和诊断功能的智能化监控体系,可以在故障发生之前发现问题,从而最大程度延长正常运行时间并最大程度减少需要重新测定的样品数量。

任何其他电感耦合等离子体发射光谱仪 (ICP-OES) 均无法让您对样品和仪器状态有如此深入的了解,因此 5800 ICP-OES 结合强大的 ICP Expert 软件可助您始终在第一时间获得准确结果。

   特性

使用安捷伦独有的 IntelliQuant 功能,了解有关样品的更多信息。IntelliQuant 能够采集整个波长范围内的数据,识别光谱干扰并为您提供建议,确保您始终获得准确结果;

通过传感器和计数器进行智能仪器状态追踪,并在系统需要维护时为用户提供指导,助您有效缩短停机时间、降低维护成本;

Neb Alert 功能可持续监测雾化器,并在雾化器需要清洁或发生泄漏时提醒您,从而避免时间浪费和故障排除成本;

ICP Expert 包括数据分析和智能算法功能,使方法开发更有据可依,并能实现自动化故障排除,这些算法包括拟合背景校正 (FBC)、快速自动曲线拟合技术 (FACT)、元素间干扰校正 (IEC) 和 IntelliQuant;

采用垂直炬管设计,能够降低清洁频率、缩短停机时间并减少炬管更换次数;

5800 是市面上体积最小的 ICP-OES 仪器,不仅可以节省宝贵的工作台空间,还可以降低使用维护成本。紧凑的光路布局能够实现快速吹扫,从而减少样品的测量等待时间。


      联系方式   

18515500375

yajuan.zhou@agilent.com


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联系方式


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第二届碳基半导体材料与器件产业发展论坛展位联


Luna Li (李 蕊)


手机号码: +86 13373875075

邮箱: luna@polydt.com





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