京东方已在氧化物半导体显示技术领域取得重要突破,攻克了铜(Cu)易扩散、易氧化和易钻刻等业界难题,在业内率先实现了铜互连堆叠结构的量产,及高刷新率、高分辨率、低功耗氧化物显示技术集成,打破了国外垄断。同时在高迁移率30+cm2/Vs 氧化物技术研发方面也有很大突破,为后续高端产品的性能提升奠定了技术基础。
京东方13.3英寸氧化物 Full In Cell UHD超窄边框显示屏
京东方创造性研发出铜扩散阻挡技术,提出独有的氮氧平衡理论、界面修复理论,同时产学研联合,在材料、器件结构和原理上均实现了突破,解决了氧化物半导体显示技术的量产难题,在国内率先实现量产。同时集成栅驱动电路嵌入阵列基板、触控驱动的集成化技术、高透过率的薄膜光学模型等,既实现了产品性能提升,又实现了从传统非晶硅TFT向氧化物导体显示的技术升级。开拓了一条低碳、绿色的产业和产品升级路线。
智慧显示
邮箱 : luffy7374@163.com
今日头条:WitDisplay
合作/爆料微信:2482472286