KLA为RET开发人员提供最佳方案，基于Linux的新光刻优化工具震撼登场

KLA-Tencor公司推出了一种基于Linux的新光刻优化工具LithoWare，能使半导体电路设计师减少开发IC的时间和成本。LithoWare基于该公司的软件仿真工具Prolith产品。

大多数EDA产品在Linux/Unix环境下运行。有了LithoWare，用户能载入GDSII文件，选择多仿真区域，通过改变运行中的照明，互动引导OPC decoration，然后将经过OPC装饰的掩模输出为一个GDSII文件。

“LithoWare为RET开发人员提供了两个最佳的方案，”KLA-Tencor工艺分析部总经理 Edward Charrier表示。“RET工程师能使用LithoWare灵活、可预测能力，在开发光刻条件如照明、最新的光阻及其它时同时优化OPC。采用 LithoWare，他们能更快速的创建RET方案，然后确保它在整个工艺窗口正常工作---从而实现了更可靠、制造性更高的设计。”