Carl Zeiss SMT公司已经展示了一种用于光刻系统的新型设计和生产设施，其定位是致力于把最新沉浸光刻系统用于低至45nm的半导体几何学工艺。
新近成立的中心是该公司的光刻设备在德国Oberkochen的第三步扩张步骤，据该公司称，自2000年12月破土动工首次扩张以来，公司已将超过4亿5000万欧元(约5亿6300万美元)投入到全部设施，并投入3亿欧元用于设备和机器，1.5亿欧元用于厂房。
这些设施中，部分现已投入生产，Carl Zeiss SMT还将开发和制造现正推广的下一代Starlith 1900i光刻光学系统。据该公司称，这种系统除多个镜片外还包括多个光学反射镜，设计用于130nm光波长并支持1.35的数字孔径。这一系统可能会成为由Carl Zeiss SMT公司的主要客户ASML形成的新一代制造系统的核心。
发言人说，生产过程包括表面被覆和最后调整，公司为此启用了一块面积约几千平方米的无尘室。该公司目前每年销售数百件光学光刻系统，像目前所推出的Carl Zeiss公司的Starlith光学系统，代表了下一代光刻系统，半导体有望被转移到EUV(极超紫外线)工艺中。Carl Zeiss SMT公司目前也正从事于这一系统的开发；首批alpha工具已于近日运抵美国和比利时等客户手中。但是，大量的EUV量产路线图仍在激烈讨论中，并且在Carl Zeiss内部，尚无人愿提供一份精确的时间表。
“我们认为十年内不会出现，”一位发言人含糊其辞地评价说。
