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从平面到立体,SiC-MOSFET工艺实现重大革新

2015-07-02 邵乐峰 阅读:
飞兆日前推出其首款六轴MEMS惯性测量装置FIS1100。该IMU集成了专有的AttitudeEngine运动处理器以及XKF3九轴传感器融合算法,为设计人员提供了低至十分之一的处理功耗和易于实施的系统级解决方案。

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近年来,在全球范围寻求解决供电问题的大背景下,涉及到如何有效地输送并利用所发电力的“功率转换”备受关注。ROHM公司近日于世界首家开发出采用沟槽结构的SiC-MOSFET器件,并已建立起了完备的量产体制。

ROHM半导体(深圳)有限公司分立元器件部高级经理水原德健表示,因在SiC-MOSFET中采用沟槽结构可有效降低导通电阻,使其近年来备受关注。但为了确保元器件的长期可靠性,需要设计能够缓和Gate Trench部分产生的电场的结构。

此次ROHM通过采用独创的结构,成功地解决了该课题并实现量产,被ROHM方面视作“具备里程碑意义”的大事件。数据显示,与已经在量产中的平面型SiC-MOSFET相比,同一芯片尺寸的导通电阻可降低50%,输入电容降低约35%,这将大幅降低太阳能发电用功率调节器和工业设备用电源、工业用逆变器等所有相关设备的功率损耗。

同步推出的产品还包括利用沟槽结构SiC-MOSFET的“全SiC”功率模块。该模块内部电路为2in1结构,采用SiC-MOSFET及SiC-SBD,额定电压1200V,额定电流180A。与使用平面型SiC-MOSFET的“全SiC”模块相比,其开关损耗降低约42%。

从平面到立体,SiC-MOSFET工艺实现重大革新(电子工程专辑)
SiC-MOSFET平面结构和沟槽结构的性能比较

从平面到立体,SiC-MOSFET工艺实现重大革新(电子工程专辑)
开关损失比较图(IGBT Module vs Planar MOSFET vs Trench MOSFET)

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邵乐峰
ASPENCORE 中国区首席分析师。
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