这里就是三星(Samsung)的14纳米FinFET制程处理器Exynos 7420 ,但到底是采用谁家的14纳米制程是个问题──不久前业界猜测该款处理器封装上的“ALB”字样是代表美国纽约州Albany,而“G”是代表GlobalFoundries。
因此TechInsights认为值得仔细观察一下其他较旧款的Exynos系列处理器,来看看是否能发现一些共通性;下方的图片中,除了Exynos 7420的近距离特写,还有Exynos 4412、5410、5430以及5433。
我们注意到Exynos 7420封装上印刷的处理器型号“N8AZ9MP31”下方有“ALB”字样,这被推测是指Albany机场,而且延伸联想到GlobalFoundries同样位于美国纽约州(Saratoga)的晶圆代工业者GlobalFoundries。而在其他Exynos处理器上也有类似的字样,例如4412上的事ACA,5014上的是ABA,5422上的是AJB,5430上的是BJE,5433上的则是AKD。
Samsung Exynos 7420特写 (来源:Techinsights)
经过搜寻全球各地的机场代码(IATA 3- letter),ACA代表的是墨西哥Acapulco,ABA代表的是俄罗斯的Abakan,AJB与BJE不存在,AKD是印度的Akola;而既然以上有两种英文字母组合是不存在的,其他三个代表的机场又与三星晶圆厂距离甚远,因此我们可以排除“ALB”是指晶圆代工厂位置的可能性。
Exynos 4412 (来源:Techinsights)
Exynos 5422 (来源:Techinsights)
Exynos 5430 (来源:Techinsights)
Exynos 5433 (来源:Techinsights)
至于Exynos GXL4928R中的字母G,在4412、5422、5433上也可见到,分别式GKL799X、GFL2349C与GUF6679M;我们认为G指的是在PoP (Package on Package)封装内存模块内使用SRAM,并不是晶圆代工厂的代号。
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我们也注意到,上述的Exynos处理器(4412、5422、5430与5433)是在14纳米节点前好一段时间就生产了,也是在GlobalFoundries授权三星14纳米制程技术之前,因此G不可能指的是那家晶圆代工业者,可以排除;我们认为Exynos 7420是三星自家生产。
从下面的图片可以看到面积为9.2 mm x 9.3 mm (86 mm2 )的Exynos 7420裸晶;这款组件采用覆晶(flip-chip)方式与封装基板以凸块(bump)黏结,可以看到那些暗色的凸块分布在裸晶的表面上。
我们一开始对7420的横截面分析显示该款芯片确实有FinFET晶体管,因此确定三星是采用14纳米FinFET制成生产此处理器;我们量测到的接触闸(contacted gate)间距约为77纳米,比Exynos 5430所采用的20纳米制程之90纳米间距小了15%左右。
Exynos 7420裸晶 (来源:Teardown.com)
扫描式电子显微镜(SEM)影像则显示,围绕在金属闸极侧边与底部的闸介电质(gate dielectric)与功函数金属(work function metal)。
Exynos 7420的FinFET晶体管
Exynos 7420的FinFET晶体管
在2015年4月发表的Exynos 7420,是继英特尔(Intel)在2014年10月发表第一款14纳米Broadwell 处理器5Y70之后,第一款采用14纳米FinFET制程生产的芯片;而这款芯片的发表距离三星于2014年9月发表的20纳米节点Exynos 5420仅七个月。英特尔传统上在制程进展会比台积电(TSMC)与三星超前一年,现在三星已经将差距缩短到半年,这是一大成就。
作者Kevin Gibb:《电子工程专辑》美国版姊妹公司TechInsights的产品经理
翻译:Judith Cheng
本文授权翻译自EE TIMES,谢绝转载